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真空濺射離子鍍膜(PVD)服務(wù)商

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PVD鍍膜需要在真空環(huán)境下進(jìn)行?

時(shí)間:2020-07-15    點(diǎn)擊數(shù):

PVD的全稱是Physical Vapor Deposition,即物理氣相沉積。是一種物理狀態(tài)下的物質(zhì)轉(zhuǎn)移過(guò)程,可以將原子或分子狀態(tài)下的物質(zhì)從一個(gè)物體轉(zhuǎn)移到另一個(gè)物體上,從而使其具有更加優(yōu)異的性能。

PVD鍍膜可以在真空環(huán)境下進(jìn)行,這項(xiàng)技術(shù)稱為PVD真空鍍膜。金屬在真空環(huán)境下與各種氣體產(chǎn)生綜合作用形成等離子體,經(jīng)過(guò)加速后,等離子體涌向被鍍工件表面,形成牢固的膜層。這層膜細(xì)密均勻,結(jié)合力強(qiáng),硬度高,防腐耐磨,具有良好的導(dǎo)電性和自潤(rùn)滑性能,同時(shí)色澤豐富多樣。

  而且,由于PVD真空鍍膜是在真空環(huán)境下進(jìn)行,而真空中的大物分物質(zhì)已被排出,所以鍍膜的過(guò)程受到外界干擾的影響就很小,顏色就不會(huì)雜亂,也沒(méi)有膜層脫落的后顧之憂。

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