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真空濺射離子鍍膜(PVD)服務(wù)商

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太倉(cāng)PVD鍍膜幾個(gè)“小”優(yōu)點(diǎn)

時(shí)間:2022-04-15    點(diǎn)擊數(shù):

目前市場(chǎng)上用得比較多的是手機(jī)裝飾鍍和功能鍍,隨著世界手機(jī)需求量的不斷增加和人們對(duì)手機(jī)外觀要求的提高及對(duì)自身健康的不斷重視,太倉(cāng)PVD真空鍍膜廠家在手機(jī)裝飾鍍和功能鍍市場(chǎng)巨大。

    但根據(jù)我們對(duì)市場(chǎng)的定位,將主要把業(yè)務(wù)方向放在3C電子產(chǎn)品上,PVD真空鍍膜廠家采用的是磁控離子濺射鍍及多弧離子鍍等先進(jìn)綠色環(huán)保真空鍍膜工藝,它的基本原理是:在真空室中利用弧光(或輝光)放電所產(chǎn)生的能量將靶材(鈦等金屬或合金)直接蒸發(fā)(或?yàn)R射)離化生成金屬離子,并通過(guò)電場(chǎng)進(jìn)行加速與反應(yīng)氣體生成金屬化合物,最后沉積在工件表面.其可以在產(chǎn)品表面鍍覆金黃色、黃銅色、香檳色、銀白色、槍黑色、玫瑰色、古銅色、咖啡色、紫銅色、褐色、深黑色等多種美觀耐用的裝飾膜。與其它表面處理效果:如拉絲、高光(機(jī)械拋光)、麻面(噴砂)、亞光、雷雕等相結(jié)合大大增加了產(chǎn)品的附加值。真空鍍膜。

    PVD膜層的特點(diǎn):具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)、表面細(xì)膩光滑并富有金屬光澤同時(shí)顏色均勻一致,大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD膜層的厚度為微米級(jí),厚度較薄,一般為0.2μm ~ 5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.2μm ~ 2μm ,因此PVD真空鍍膜廠家可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能。PVD膜層抵抗力強(qiáng),在常規(guī)環(huán)境下具有抗氧化、不褪色,不失去光澤、耐磨損、耐刮擦、不易劃傷,且可鍍材料廣泛,與基體結(jié)合力強(qiáng)。

本文網(wǎng)址:http://gwsdrri.cn/news/514.html

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